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HomeProdukt-ListeHalbleiterprozessmaterialienStickstoff -Trifluorid -HalbleiterprozessmaterialienEffizienter LCD -Display -Tafel sauberer Stickstofftrifluorid

Effizienter LCD -Display -Tafel sauberer Stickstofftrifluorid

  • $9999
    ≥100
    Ton
Incoterm:
FOB,CIF,DDP
Minimum der Bestellmenge:
100 Ton
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  • Produktbeschreibung
Overview
Produkteigenschaften

ModellNitrogen Trifluoride

Lieferfähigkeit & Zusatzinformationen

IncotermFOB,CIF,DDP

Verpackung & Lieferung
Verkaufseinheiten:
Ton

Produkteinführung

Stickstoff -Trifluorid (NF 3 ) ist eine Art farbloser, geruchloser und charakterstabiler Gas, es ist auch eine Art starkes Oxidationsmittel. Sein Schmelzpunkt beträgt 206,8 ℃, der Siedepunkt beträgt 129,0 ℃, unlöslich in Wasser. Stickstoff -Trifluorid in der Mikroelektronikindustrie ist eine Art exzellentes Plasma -Ätzgas, das während des Plasmaketingprozesses in aktives Fluorion geknackt wird. Für die Plasmaköhe von Silizium und Siliziumnitrid weist unter Verwendung von Stickstofftrifluorid eine höhere Ätzrate und Selektivität auf als die Verwendung von Kohlenstoff -Tetrafluorid oder Kohlenstoff -Tetrafluorid und Sauerstoffmischgas, insbesondere bei der Ätzen integrierten Schaltungsmaterials mit weniger als 1,5 μm, und mit 1,5 & mgr; m. Stickstoff -Trifluorid hat eine hervorragende Ätzrate und Selektivität. Darüber hinaus gibt es keine Verschmutzung auf der Oberfläche von geätztem Material, es ist auch ein gutes Reinigungsmittel.

Qualitätsspezifikation

Items  Unit  Indexs
(NF3)≥ Vol.% 99.5 99.9 99.98 99.99 99.996
(CF4)≤ Vol.ppm 1500 500 100 50 20
(N2)≤ Vol.ppm 700 50 10 10 5
(O2+Ar))≤ Vol.ppm 700 50 10 5 3
(CO)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
(CO2)≤ Vol.ppm 25 10 10 5 0.5
(N2O)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
(SF6)≤ Vol.ppm 50 50 10 5 2
Hydrolyzable fluoride
(Measured by HF)≤
Vol.ppm 1 1 1 1 1
(H2O)≤ Vol.ppm 1 1 1 1 1
Anwendung

Stickstoff -Trifluorid kann als Fluorquelle für chemische Lasergas mit hohem Energiegas und als Ätzmittel für Halbleitermaterialien wie Polysilicon, Siliziumnitrid und Wolfram -Silizium verwendet werden. Es kann auch als Reinigungsmittel für die chemische Dampfabscheidung und die LCD -Panel verwendet werden. Stickstoff -Trifluorid wird als Reinigungsmittel für CVD -Box verwendet, das die Schadstoffemission im Vergleich zu Perfluorkohlenwasserstoffen um 90% verringern und die Reinigungsgeschwindigkeit und die Reinigungskapazität erheblich verbessern.

Verpackung und Lagerung

Stickstoff -Trifluorid E wird in einem nahtlosen Stahl mit dem Volumen von 8L, 40L, 43,3L bzw. 47L gefüllt. Der Druck des Zylinders beträgt 9,0-13,0 mPa. Verpackungsspezifikationen können gemäß den Anforderungen der Kunden angepasst werden.

Produktgruppe : Halbleiterprozessmaterialien > Stickstoff -Trifluorid -Halbleiterprozessmaterialien

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